|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Resistant behavior of a novel silica-based octyl(phenyl)-N,N-diisobutyl carbamoylmethylphoshine oxide neutral extraction resin against nitric acid, temperature and γ-radiation |
| Auteur: |
Zhang, Anyun Wei, Yuezhou Kumagai, Mikio Koma, Yoshikazu Koyama, Tomozo |
| Verschenen in: |
Radiation physics and chemistry |
| Paginering: | Jaargang 72 (2005) nr. 4 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |