|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 72 gevonden artikelen
| Titel: |
Determination of optimum etching duration of CR–39 track detector for high fluence alpha particle measurement using UV–Vis spectroscopy |
| Auteur: |
Sahoo, G.S. Tripathy, S.P. Roy, Rahul Joshi, D.S. Kulkarni, M.S. |
| Verschenen in: |
Radiation physics and chemistry |
| Paginering: | Jaargang 201 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 72 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |