|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 33 gevonden artikelen
| Titel: |
Hard X-ray dosimetry of a plasma focus suitable for industrial radiography |
| Auteur: |
Knoblauch, P. Raspa, V. Di Lorenzo, F. Clausse, A. Moreno, C. |
| Verschenen in: |
Radiation physics and chemistry |
| Paginering: | Jaargang 145 (2018) nr. C pagina's 39-42 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 33 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |