|
Oxygen ion implantation at 20 to 2000 keV into polysulfone for improvement of endothelial cell adhesion |
|
|
|
Titel: |
Oxygen ion implantation at 20 to 2000 keV into polysulfone for improvement of endothelial cell adhesion |
Auteur: |
Xu, Guochun Hibino, Yutaka Suzuki, Yasuo Suzuki, Yoshiaki Kurotobi, Kimi Osada, Minoru Iwaki, Masaya Kaibara, Makoto Tanihara, Masao Imanishi, Yukio |
Verschenen in: |
Colloids and Surfaces. B, Biointerfaces |
Paginering: |
Jaargang 19 (2000) nr. 3 pagina's 11 p. |
Jaar: |
2000 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|