|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
Molecular dynamics study of the effects of deposition parameters on Si0.5Ge0.5 film growth on Ge(100) substrate |
| Auteur: |
Xie, Jianan Lin, Tao Wang, Cailin |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 256 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |