|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic-scale study on particle movement mechanism during silicon substrate cleaning using ReaxFF MD |
| Auteur: |
Zeng, Qinyang Li, Changkun Zhao, Dewen Lu, Xinchun |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 214 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |