|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Reactive force-field molecular dynamics simulation for the surface reaction of SiH x (x = 2–4) species on Si(100)-(2 × 1):H surfaces in chemical vapor deposition processes |
| Auteur: |
Uene, Naoya Mabuchi, Takuya Zaitsu, Masaru Yasuhara, Shigeo Tokumasu, Takashi |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 204 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |