|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic mechanisms of Si chemical mechanical polishing in aqueous H2O2: ReaxFF reactive molecular dynamics simulations |
| Auteur: |
Wen, Jialin Ma, Tianbao Zhang, Weiwei van Duin, Adri C.T. Lu, Xinchun |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 131 (2017) nr. C pagina's 230-238 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |