|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Hydrogen diffusion behavior and vacancy interaction behavior in OsO2 and RuO2 by ab initio calculations |
| Auteur: |
Kim, Samuel Lai, Wensheng |
| Verschenen in: |
Computational materials science |
| Paginering: | Jaargang 102 (2015) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |