|
Engineering the defect distribution via boron doping in amorphous TiO2 for robust photocatalytic NO removal |
|
|
|
Titel: |
Engineering the defect distribution via boron doping in amorphous TiO2 for robust photocatalytic NO removal |
Auteur: |
Jia, Hongbao Shang, Huan He, Yue Gu, Shuwei Li, Shuangjun Wang, Qing Wang, Shike Peng, Jinghuan Feng, Xichen Li, Pengpeng Xu, Hui Mao, Chengliang Li, Hao Xiao, Shuning Wang, Ding Li, Guisheng Zhang, Dieqing |
Verschenen in: |
Applied catalysis. B, Environmental |
Paginering: |
Jaargang 356 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2024 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|