|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic hydrogen-induced chemical vapor deposition of a-Si:C:H thin-film materials from alkylsilane precursors |
| Auteur: |
Wróbel, A.M. Wickramanayaka, S. Nakanishi, Y. Hatanaka, Y. Pawłowski, S. Olejniczak, W. |
| Verschenen in: |
Diamond and related materials |
| Paginering: | Jaargang 6 (1997) nr. 9 pagina's 11 p. |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |