|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
F2, H2O, and O2 etching rates of diamond and the effects of F2, HF and H2O on the molecular O2 etching of (110) diamond |
| Auteur: |
Chu, C.J. Pan, C. Margrave, J.L. Hauge, R.H. |
| Verschenen in: |
Diamond and related materials |
| Paginering: | Jaargang 4 (1995) nr. 12 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |