|
Comparative study of deposition characteristics a-C:H films by plasma CVD using methane, acetylene, and cumene |
|
|
|
Titel: |
Comparative study of deposition characteristics a-C:H films by plasma CVD using methane, acetylene, and cumene |
Auteur: |
Ono, Shinjiro Okumura, Takamasa Kamataki, Kunihiro Attri, Pankaj Koga, Kazunori Shiratani, Masaharu Watanabe, Kei Fukumizu, Hiroyuki |
Verschenen in: |
Diamond and related materials |
Paginering: |
Jaargang 157 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2025 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
The Authors |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|