|
Achieving the low stress and defects of diamond film by introduction of SiNx dielectric layer |
|
|
|
Titel: |
Achieving the low stress and defects of diamond film by introduction of SiNx dielectric layer |
Auteur: |
Yang, Zhiliang Feng, Xurui Wang, Yunkai Chan, Siyi Guo, Zhijian Liu, Yuchen An, Kang Chen, Liangxian Liu, Jinlong Wei, Junjun Li, Chengming |
Verschenen in: |
Diamond and related materials |
Paginering: |
Jaargang 155 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2025 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|