|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Optical properties of Si–O–N–F films as a phase shift mask material for 157 nm optical lithography |
| Auteur: |
Kim, Sung Kwan Kang, Myung Ah Sohn, Jung Min Kim, Songho No, Kwangsoo |
| Verschenen in: |
Optical materials |
| Paginering: | Jaargang 22 (2003) nr. 4 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 13 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |