|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Porous SiO2 antireflection film with high UV resistance |
| Auteur: |
Wu, Yonghong Shang, Zhihang Li, Zhaorui Zhu, Wenle Nie, Lifang Liu, Juncheng |
| Verschenen in: |
Optical materials |
| Paginering: | Jaargang 153 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |