|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 42 van 101 gevonden artikelen
| Titel: |
Factors associated with mask wearing among psychiatric inpatients during the COVID-19 pandemic |
| Auteur: |
Jung, Ha-Ran Park, Cheol Kim, Mina Jhon, Min Kim, Ju-Wan Ryu, Seunghyong Lee, Ju-Yeon Kim, Jae-Min Park, Kyung-Hwa Jung, Sook-In Yoon, Bo-Hyun Kim, Sung-Wan |
| Verschenen in: |
Schizophrenia research |
| Paginering: | Jaargang 228 () nr. C pagina's 235-236 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 42 van 101 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |