|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of high dielectric HfO2 thin films on the electrical properties of Al/HfO2/n-Si (MIS) structured Schottky barrier diodes |
| Auteur: |
Harishsenthil, P. Chandrasekaran, J. Marnadu, R. Balraju, P. Mahendran, C. |
| Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
| Paginering: | Jaargang 594 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |