|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 381 van 6539 gevonden artikelen
| Titel: |
Argon and oxygen pressure influence on the properties of NiO films deposited by magnetron sputtering in layer-by-layer growth regime |
| Auteur: |
Karpyna, V.A. Ievtushenko, A.I. Bykov, O.I. Kolomys, O.F. Strelchuk, V.V. Starik, S.P. Baturin, V.A. Karpenko, O.Yu. Lytvyn, O.S. |
| Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
| Paginering: | Jaargang 678 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 381 van 6539 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |