|
Optimization of bent perfect Si(220)-crystal monochromator for residual strain/stress instrument—Part II |
|
|
|
Titel: |
Optimization of bent perfect Si(220)-crystal monochromator for residual strain/stress instrument—Part II |
Auteur: |
Moon, Myung-Kook Em, Vyacheslav T. Lee, Chang-Hee Mikula, Pavol Hong, Kwang-Pyo Choi, Young-Hyun Cheon, Jong-Kyu Nam, Uk-Won Kong, Kyung-Nam Jin, Kyung-Chan |
Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
Paginering: |
Jaargang 368 (2005) nr. 1-4 pagina's 6 p. |
Jaar: |
2005 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|