|
Investigation of back gate interface states by drain current hysteresis in PD-SOI n-MOSFETs |
|
|
|
Titel: |
Investigation of back gate interface states by drain current hysteresis in PD-SOI n-MOSFETs |
Auteur: |
Hayama, K. Takakura, K. Okada, S. Kudou, T. Ohyama, H. RafĂ, J.M. Martino, J.A. Mercha, A. Simoen, E. Claeys, C. |
Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
Paginering: |
Jaargang 376-377 (2006) nr. C pagina's 4 p. |
Jaar: |
2006 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|