|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3418 van 4181 gevonden artikelen
| Titel: |
Stress evaluation of chemical vapor deposited silicon dioxide films |
| Auteur: |
Maeda, Masahiko Itsumi, Manabu |
| Verschenen in: |
Physica. B, Condensed matter |
| Paginering: | Jaargang 324 (2002) nr. 1-4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3418 van 4181 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |