|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 39 van 43 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal atomic layer deposition of AlOxNy thin films for surface passivation of nano-textured flexible silicon |
| Auteur: |
Parashar, Piyush K. Kinnunen, S.A. Sajavaara, T. Toppari, J. Jussi Komarala, Vamsi K. |
| Verschenen in: |
Solar energy materials and solar cells |
| Paginering: | Jaargang 193 (2019) nr. C pagina's 231-236 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 39 van 43 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |