|
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 1 gevonden artikelen
| Titel: |
Rapid thermal low-pressure metal-organic chemical vapor deposition (RT-LPMOCVD) of semiconductor, dielectric and metal film onto InP and related materials |
| Auteur: |
Feingold, A. Katz, A. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. R, Reports |
| Paginering: | Jaargang 13 (1994) nr. 2 pagina's 48 p. |
| Jaar: |
1994 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 1 gevonden artikelen