|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively coupled plasma etching of GaN using Cl2/He gases |
| Auteur: |
Lin, Y.C Chang, S.J Su, Y.K Shei, S.C Hsu, S.J |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 98 (2003) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |