|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of interfacial reactions between ionized metal plasma deposited Al–0.5 wt.% Cu and Ti on SiO2 |
| Auteur: |
Lee, Y.K Maung Latt, K Li, S Osipowicz, T Chiam, S.Y |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 77 (2000) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |