|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic simulation of ion implantation and its application in Si technology |
| Auteur: |
Posselt, Matthias Schmidt, Bruno Feudel, Thomas Strecker, Norbert |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 71 (2000) nr. 1-3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |