|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of diffusion barrier properties of ionized metal plasma (IMP) deposited tantalum (Ta) between Cu and SiO2 |
| Auteur: |
Lee, Y.K Maung Latt, K JaeHyung, K Osipowicz, T Lee, K |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 68 (1999) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |