|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively coupled plasma etching of CoFeB, CoZr, CoSm and FeMn thin films in interhalogen mixtures |
| Auteur: |
Cho, H. Jung, K.B. Hays, D.C. Hahn, Y.B. Feng, T. Park, Y.D. Childress, J.R. Cadieu, F.J. Rani, R. Qian, X.R. Chen, L. Pearton, S.J. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 60 (1999) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |