|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 54 gevonden artikelen
| Titel: |
Al doping concentration effects in HfO2 ferroelectric memory fabricated via low-temperature PDA annealing |
| Auteur: |
Guo, Yumeng Pan, Zhong Zhang, Junzhe Wang, Fucheng Chen, Jingwen Jang, Yunhui Kim, Yong-Sang Song, Jang-Kun Khokhar, Muhammad Quddamah Yi, Junsin |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 320 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 54 gevonden artikelen
| volgende >> |