|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
High-density plasma etching of cobalt thin films using C2H5OH/O2/Ar gas mixture |
| Auteur: |
Kim, Seon Jae Jeong, Jun Won Park, Sung Yong Chung, Chee Won |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 293 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |