|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Reactive ion etching characterization of a-SiC: H in CF4/O2 plasma |
| Auteur: |
Saggio, G. Verona, E. Di Rosa, P. La Monica, S. Salotti, R. Schirone, L. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 29 (1995) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |