|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Electron-beam-induced current and atomic force microscopy studies on silicon etch steps created by reactive ion etching and reactive ion beam etching |
| Auteur: |
Jäger-Waldau, G. Habermeier, H.-U. Zwicker, G. Bucher, E. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 24 (1994) nr. 1-3 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
1994 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |