|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Time dependence of stress and hillock distributions during electromigration in thin metal film interconnections |
| Auteur: |
Klinger, L. Glickman, E. Katsman, A. Levin, L. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 23 (1994) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1994 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |