|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Schottky device behavior of n-Si/Pd2Si/Al and n-Si/CoSi2/Al contacts with and without a Ta2N diffusion barrier |
| Auteur: |
Farooq, Mukta S. Murarka, Shyam P. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 19 (1993) nr. 3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |