|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of the post-deposition annealing on electrical characteristics of MIS structures with HfO2/SiO2 gate dielectric stacks |
| Auteur: |
Taube, Andrzej Mroczyński, Robert Korwin-Mikke, Katarzyna Gierałtowska, Sylwia Szmidt, Jan Piotrowska, Anna |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 177 (2012) nr. 15 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |