|
Improved GaAs/Ga 1−x Al x As chemical beam epitaxy using triisopropylgallium |
|
|
|
Titel: |
Improved GaAs/Ga 1−x Al x As chemical beam epitaxy using triisopropylgallium |
Auteur: |
Lane, P.A. Martin, T. Whitehouse, C.R. Freer, R.W. Houlton, M.R. Calcott, P.D.J. Lee, D. Pitt, A.D. Jones, A.C. Rushworth, S. |
Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
Paginering: |
Jaargang 17 (1993) nr. 1-3 pagina's 6 p. |
Jaar: |
1993 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|