|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
A model for low pressure chemical vapor deposition in a hot-wall tubular reactor |
| Auteur: |
Houf, W.G. Grcar, J.F. Breiland, W.G. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 17 (1993) nr. 1-3 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
1993 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 39 gevonden artikelen
| volgende >> |