Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 5 van 12 gevonden artikelen
 
 
  Fabrication of relaxed GeSi buffer layers on Si(100) with low threading dislocation density
 
 
Titel: Fabrication of relaxed GeSi buffer layers on Si(100) with low threading dislocation density
Auteur: Xie, Y.H.
Fitzgerald, E.A.
Silverman, P.J.
Kortan, A.R.
Weir, B.E.
Verschenen in: Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology
Paginering: Jaargang 14 (1992) nr. 3 pagina's 4 p.
Jaar: 1992
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 5 van 12 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland