|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 45 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Variations in thermal SiO2 and buried SiO2 formed by oxygen implantation revealed by chemical etch rates in HF solutions as a function of thickness |
| Auteur: |
Vanheusden, K. Stesmans, A. |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. B, Solid-state materials for advanced technology |
| Paginering: | Jaargang 12 (1992) nr. 1-2 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1992 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 45 van 45 gevonden artikelen
| << vorige |