|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 67 gevonden artikelen
| Titel: |
Averaging effect of radical particle profile by the scanning plasma method in SiH4Ar plasmas |
| Auteur: |
Fujiyama, Hiroshi Kawasaki, Hiroharu Matsuda, Yoshinobu Ohno, Noriyasu |
| Verschenen in: |
Materials science and engineering. A, Structural materials: properties, microstructure and processing |
| Paginering: | Jaargang 140 (1991) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 67 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |