|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma enhanced deposition of a-Si-H: comparison of two reactor arrangements |
| Auteur: |
Layeillon, L. Dollet, A. Despax, B. |
| Verschenen in: |
Chemical engineering journal and the biochemical engineering journal |
| Paginering: | Jaargang 58 (1995) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |