|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Multi-component diffusion phenomena in multiple-wafer chemical vapour deposition reactors |
| Auteur: |
Kuijlaars, K.J. Kleijn, C.R. van den Akker, H.E.A. |
| Verschenen in: |
Chemical engineering journal and the biochemical engineering journal |
| Paginering: | Jaargang 57 (1995) nr. 2 pagina's 10 p. |
| Jaar: |
1995 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |