|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Role of polycation adsorption in poly-Si, SiO2 and Si3N4 removal during chemical mechanical polishing: Effect of polishing pad surface chemistry |
| Auteur: |
Penta, Naresh K. Matovu, John B. Veera, P.R. Dandu Krishnan, Sitaraman Babu, S.V. |
| Verschenen in: |
Colloids and surfaces. A, Physicochemical and engineering aspects |
| Paginering: | Jaargang 388 (2011) nr. 1-3 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |