|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 36 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Supercritical CO2 reactor for wafer-scale thin film deposition: reactor concept, numerical results, and Cu depositio. |
| Auteur: |
Kondoh, Eiichi Ueno, Takahiro Kurita, Shuhei Watanabe, Mitsuhiro Yamamoto, Satoshi Suemasu, Tatsuo |
| Verschenen in: |
The Journal of supercritical fluids |
| Paginering: | Jaargang 104 (2015) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 36 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |