|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 25 van 27 gevonden artikelen
| Titel: |
X–ray absorption fine structure (XAFS) of Si wafer measured using total reflection X–rays |
| Auteur: |
Kawai, Jun Hayakawa, Shinjiro Kitajima, Yoshinori Gohshi, Yohichi |
| Verschenen in: |
Spectrochimica acta. Part B, Atomic spectroscopy |
| Paginering: | Jaargang 54 (1999) nr. 1 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 25 van 27 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |