|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimal design of a high pressure organometallic chemical vapor deposition reactor |
| Auteur: |
Bachmann, K.J. Banks, H.T. Höpfner, C. kepler, G.M. LeSure, S. McCall, S.D. Scroggs, J.S. |
| Verschenen in: |
Mathematical and computer modelling |
| Paginering: | Jaargang 29 (1999) nr. 8 pagina's 16 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |