|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 6 gevonden artikelen
| Titel: |
Quantitative study of oxidation mechanism in photoelectrochemical mechanical polishing of difficult-to-process semiconductor wafers |
| Auteur: |
Sun, Yuewen Gao, Shang Zhang, Bi Zhao, Yang Guo, Xiaoguang Kang, Renke Dong, Zhigang |
| Verschenen in: |
International journal of machine tools & manufacture |
| Paginering: | Jaargang 210 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 6 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |