|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of HfCl4, HfI4, TEMA-Hf, and TDMA-Hf as precursors in early growing stages of HfO2 films deposited by ALD: A DFT study |
| Auteur: |
Cortez-Valadez, M. Fierro, C. Farias-Mancilla, J.R. Vargas-Ortiz, A. Flores-Acosta, M. RamÃrez-Bon, R. Enriquez-Carrejo, J.L. Soubervielle-Montalvo, C. Mani-Gonzalez, P.G. |
| Verschenen in: |
Chemical physics |
| Paginering: | Jaargang 472 (2016) nr. C pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |