|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of Ar+ ion etching treatment on the surface work function of Hg3In2Te6 wafer |
| Auteur: |
Sun, Jie Fu, Li Wang, Yiyi Ren, Jie Li, Yapeng Zhang, Wenhua Zhu, Junfa |
| Verschenen in: |
Journal of electron spectroscopy and related phenomena |
| Paginering: | Jaargang 187 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |